Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
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Wie revolutionieren CGH-Zylinder-Nullwerte die optische Prüfung und Präzisionsmessung?22 2025-10

Wie revolutionieren CGH-Zylinder-Nullwerte die optische Prüfung und Präzisionsmessung?

Im sich schnell entwickelnden Bereich der optischen Messtechnik haben sich CGH-Zylindernullen als unverzichtbare Werkzeuge für die Präzisionsprüfung und Kalibrierung zylindrischer und asphärischer Oberflächen erwiesen. Durch den Ersatz komplexer mechanischer Aufbauten durch computergenerierte Holographie (CGH) ermöglichen diese Nullkorrektoren eine hochpräzise Oberflächenüberprüfung in hochwertigen optischen Systemen wie Teleskopen, Kameraobjektiven und Halbleiterinspektionsinstrumenten. In diesem Artikel wird untersucht, wie, warum und was CGH-Zylindernullen für Branchen, die eine Genauigkeit im Submikrometerbereich und kostengünstige Testlösungen suchen, so wichtig macht. Gleichzeitig wird die professionelle Exzellenz von Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd. hervorgehoben, einem führenden Hersteller in diesem Bereich.
Was sind die Funktionsprinzipien der CGH-Nullkorrektoren?05 2025-09

Was sind die Funktionsprinzipien der CGH-Nullkorrektoren?

CGH-Nullkorrektoren (computergenerierte Hologramm-Nullkorrektoren) sind fortschrittliche optische Prüfgeräte zur Messung und Korrektur von Aberrationen in optischen Präzisionssystemen wie asphärischen und Freiformlinsen oder Spiegeln.
Kennen Sie Film Photomask?19 2025-05

Kennen Sie Film Photomask?

Bei der Filmfotomaske handelt es sich um eine Masterplatte, die für die Waferherstellung integrierter Schaltkreise verwendet wird und relevante Informationen zum Designlayout integrierter Schaltkreise enthält. Beim Wafer-Herstellungsprozess wird das Muster auf der Filmfotomaske durch eine Reihe von Prozessen wie Fotolackbeschichtung, Belichtung und Entwicklung auf das belichtete Substratmaterial übertragen, um eine Musterübertragung zu erreichen.
Detaillierte Einführung der Maskenplatte29 2025-04

Detaillierte Einführung der Maskenplatte

Eine Fotomaske, auch Lichtmaske, Fotomaske oder Fotolithographiemaske genannt, ist ein Mastermuster, das im Fotolithographieprozess bei der Herstellung von Mikroelektronik verwendet wird. Im Folgenden finden Sie eine detaillierte Einführung:
Die Maßnahmen der optischen Industrie als Reaktion auf die Zollanpassung durch die USA28 2025-04

Die Maßnahmen der optischen Industrie als Reaktion auf die Zollanpassung durch die USA

Als Reaktion auf die Zollanpassung durch die Vereinigten Staaten muss die optische Industrie mehrdimensionale strategische Maßnahmen ergreifen, um den Kostendruck auszugleichen, Marktanteile zu halten und die industrielle Modernisierung zu fördern. Das Folgende ist die spezifische Strategieanalyse:
Die Auswirkungen der Zollanpassung der Vereinigten Staaten auf die optische Industrie27 2025-04

Die Auswirkungen der Zollanpassung der Vereinigten Staaten auf die optische Industrie

Die Auswirkungen der Zollanpassung der Vereinigten Staaten auf die optische Industrie weisen mehrdimensionale und tiefgreifende Merkmale auf, die Kernbereiche wie Kosten der Industriekette, Marktmuster, technologische Innovation und internationale Zusammenarbeit betreffen. Das Folgende ist die spezifische Analyse:
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