4-Zoll-Fotomaske

Zhixing verfügt über umfangreiche Erfahrung in der Herstellung von 4-Zoll-Fotomasken, wir verfügen über eine eigene Verarbeitungs- und Produktionsfabrik, der Preis ist günstig und wir unterstützen die Anpassung verschiedener Größen bei gleichzeitiger Gewährleistung hoher Präzision, um alle Anforderungen der Kunden zu erfüllen. Gerne können wir uns beraten lassen , freue mich darauf, mit Ihnen zu arbeiten.

Die 4-Zoll-Fotomaske ist ein sehr wichtiges Gerät in der optischen Industrie, das hauptsächlich im Herstellungs- und Produktionsprozess optischer Geräte verwendet wird. Der Anwendungsbereich der Maskenversion ist sehr breit und deckt viele Bereiche wie Elektronik, Halbleiter, Optik und Chemie ab. Die 4-Zoll-Fotomaskentechnologie ermöglicht die Herstellung von Fertigungsgenauigkeiten im Mikrometerbereich und hochwertige Schablonen, was eine wichtige Unterstützung für die Entwicklung der optischen Industrie darstellt.

Im Bereich der Elektronik wird die Maskenversion hauptsächlich zur Herstellung verschiedener mikroelektronischer Komponenten in elektronischen Produkten wie Transistoren, integrierten Schaltkreisen, LED-Chips usw. verwendet. Durch die Maskenplattentechnologie kann eine Fertigungsgenauigkeit im Mikrometerbereich erreicht werden, wodurch der Herstellungsprozess elektronischer Komponenten verfeinert und effizienter wird und die Produktionskapazität und Produktqualität der Elektronikindustrie erheblich verbessert werden.

Auch in der Halbleiterindustrie ist die 4-Zoll-Fotomaske ein unverzichtbares Gerät. Halbleiterchips sind eine der Grundkomponenten der modernen Wissenschaft und Technologie, und die Maskenplatte ist ein unverzichtbares Fertigungswerkzeug im Produktionsprozess von Halbleiterchips. Die 4-Zoll-Fotomaske kann die „lokale“ Verarbeitung und das Wachstum von Halbleiterchips realisieren, wodurch die Produktion von Halbleiterchips effizienter und raffinierter wird und die Fertigungskapazität und Produktqualität der Halbleiterindustrie verbessert wird.

In der optischen Industrie wird die Maskenversion hauptsächlich zur Herstellung hochpräziser optischer Geräte wie Solarpaneele, optische Schutzfolien usw. verwendet. Mit der Maskenplattentechnologie können Form, Größe, Dicke und andere Parameter des optischen Geräts genau gesteuert, hochwertige optische Geräte hergestellt und die optische Industrie immer stärker werden.

Auch in der Chemie findet die Maskenplattentechnik breite Anwendung. In der chemischen Produktion kann mit Maskenplatten eine Präzisionsfertigung im Mikrometerbereich erreicht werden. Die Herstellung hochwertiger Verbundwerkstoffe, chemischer Reagenzien, pharmazeutischer Produkte und anderer Produkte hat einen wichtigen Beitrag zur Entwicklung der chemischen Industrie geleistet.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass der Anwendungsbereich von Maskenplatten in der optischen Industrie sehr breit ist und eine Fertigungsgenauigkeit im Mikrometerbereich erreicht werden kann, was die qualitativ hochwertige Entwicklung der optischen Industrie fördert. Mit dem kontinuierlichen Fortschritt von Wissenschaft und Technologie wird auch die Maskentechnologie ständig aktualisiert und verbessert und bietet so einen breiteren Entwicklungsraum für die zukünftige Entwicklung der optischen Industrie.

Besonderheit:

In der Tabelle werden nur einige Produkte angezeigt. Wenn Sie andere Produkte benötigen,

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Physische Ausstellung von Glas-Fotomasken-Lithografieprodukten

Herstellungsprozess:

(1) Zeichnen Sie eine Masken-Retikel-Layoutdatei (GDS-Format), die vom Generierungsgerät erkannt werden kann

2) Verwenden Sie ein maskenloses Lithographiegerät, um die Layoutdatei zu lesen, führen Sie eine berührungslose Belichtung (Belichtungswellenlänge 405 nm) auf dem leeren Retikel mit Klebstoff durch und beleuchten Sie den erforderlichen Musterbereich auf dem Retikel, um den Fotolack in diesem Bereich herzustellen. (normalerweise Positivkleber) unterliegt einer photochemischen Reaktion

3) Nach dem Entwickeln und Fixieren löst sich der Fotolack im belichteten Bereich auf und fällt ab, wodurch die darunter liegende Chromschicht freigelegt wird

4) Verwenden Sie zum Nassätzen eine Chromätzlösung, ätzen Sie die freiliegende Chromschicht, um einen lichtdurchlässigen Bereich zu bilden. Die durch den Fotolack geschützte Chromschicht wird nicht geätzt und bildet einen undurchsichtigen Bereich. Auf diese Weise entstehen auf dem Retikel flächige Musterstrukturen mit unterschiedlichen Lichtdurchlässigkeiten.

5) Entfernen Sie bei Bedarf die Fotolackschicht auf dem Fadenkreuz mit nassen oder trockenen Methoden und reinigen Sie das Fadenkreuz.

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