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Fotomasken, auch einfach Masken genannt, sind wichtige Werkzeuge bei der Herstellung integrierter Schaltkreise (ICs) oder „Chips“. Diese undurchsichtigen Platten mit transparenten Bereichen, die Licht in einem definierten Muster durchscheinen lassen, spielen eine entscheidende Rolle im Fotolithographieprozess, einem der Schlüsselschritte in der Halbleiterherstellung. In diesem Artikel untersuchen wir, wie Fotomasken bei der Herstellung von ICs verwendet werden.

In der Welt der Halbleiterfertigung spielen Fotomasken und Retikel eine entscheidende Rolle bei der Herstellung integrierter Schaltkreise (ICs). Obwohl diese Begriffe häufig synonym verwendet werden, beziehen sie sich tatsächlich auf unterschiedliche Komponenten mit spezifischen Funktionen. Für jeden, der in der Mikroelektronikindustrie tätig ist, ist es wichtig, den Unterschied zwischen einer Fotomaske und einem Retikel zu verstehen.

Computergenerierte Hologramme (CGHs) haben den Bereich der Holographie revolutioniert, indem sie die digitale Erstellung und Anzeige dreidimensionaler Bilder ermöglichen, ohne dass herkömmliche holografische Aufzeichnungsmaterialien erforderlich sind. Diese Hologramme nutzen Rechenalgorithmen, um die Interferenzmuster zu simulieren, die von einem realen Objekt erzeugt würden, und ermöglichen so die Erzeugung holografischer Bilder, die mit verschiedenen Techniken angezeigt werden können. In diesem Artikel werden wir die grundlegenden Schritte zur Erstellung eines computergenerierten Hologramms untersuchen, wobei der Schwerpunkt auf Fourier-basierten Hologrammen liegt, die eine wichtige Klasse von CGHs darstellen.

In der sich ständig weiterentwickelnden Landschaft moderner Technologie sind Präzision und Genauigkeit in verschiedenen Branchen von größter Bedeutung geworden. Hier kommt das Machine Vision Calibration Board (MVCB) ins Spiel, das eine entscheidende Rolle dabei spielt, sicherzustellen, dass Kameras, Videokameras, Laser-Entfernungsmesser, Radargeräte und andere bildverarbeitungsbasierte Geräte optimal funktionieren.