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Im Bereich der Präzisionsmessung und -instrumentierung hat sich das optische Glaslinienlineal zu einem bahnbrechenden Werkzeug entwickelt, das die Grenzen von Genauigkeit und Zuverlässigkeit verschiebt. Dieses innovative Gerät nutzt die beispiellose Klarheit und Dimensionsstabilität von optischem Glas, um ein Lineal zu schaffen, das neue Maßstäbe für Linearität, Wiederholbarkeit und Haltbarkeit setzt.

Im Bereich optischer Bildgebungssysteme ist die genaue Beurteilung des Auflösungsvermögens eines Instruments von größter Bedeutung. Um diesem Bedarf gerecht zu werden, entwickelte die United States Air Force (USAF) 1951 ein bahnbrechendes Tool gemäß dem MIL-STD-150A-Standard: das 1951 USAF Resolution Test Chart. Dieses Gerät zum Testen der mikroskopischen optischen Auflösung ist seitdem zu einem allgegenwärtigen Maßstab für die Bewertung der Klarheit und Detailerfassungsfähigkeiten verschiedener Bildgebungssysteme geworden.

Im Bereich der optischen Präzisionsmesstechnik haben sich computergenerierte Hologramme (CGH) als leistungsstarke Werkzeuge zum Testen und Messen komplexer optischer Oberflächen etabliert. Unter diesen haben CGH-Zylinder-Nullwerte aufgrund ihrer Fähigkeit, zylindrische Oberflächen genau zu bewerten, große Aufmerksamkeit erregt. In diesem Artikel werden die Prinzipien, das Design und die Anwendungen von CGH-Zylindernullen untersucht und ihre Rolle bei der Weiterentwicklung optischer Testmöglichkeiten hervorgehoben.

Computergenerierte Hologramme (CGH) haben den Bereich der optischen Prüfung, insbesondere bei der Messung asphärischer Oberflächen, revolutioniert. Unter den verschiedenen CGH-Techniken spielen CGH-Nullkorrektoren eine entscheidende Rolle bei der Gewährleistung hoher Genauigkeit und Zuverlässigkeit. Dieser Artikel befasst sich mit den Prinzipien, Designüberlegungen und Anwendungen von CGH-Nullkorrektoren und betont deren Bedeutung für präzise optische Tests.

Fotomasken, auch einfach Masken genannt, sind wichtige Werkzeuge bei der Herstellung integrierter Schaltkreise (ICs) oder „Chips“. Diese undurchsichtigen Platten mit transparenten Bereichen, die Licht in einem definierten Muster durchscheinen lassen, spielen eine entscheidende Rolle im Fotolithographieprozess, einem der Schlüsselschritte in der Halbleiterherstellung. In diesem Artikel untersuchen wir, wie Fotomasken bei der Herstellung von ICs verwendet werden.

In der Welt der Halbleiterfertigung spielen Fotomasken und Retikel eine entscheidende Rolle bei der Herstellung integrierter Schaltkreise (ICs). Obwohl diese Begriffe häufig synonym verwendet werden, beziehen sie sich tatsächlich auf unterschiedliche Komponenten mit spezifischen Funktionen. Für jeden, der in der Mikroelektronikindustrie tätig ist, ist es wichtig, den Unterschied zwischen einer Fotomaske und einem Retikel zu verstehen.